در روش‌هاي معمول نانو و ميکروساخت از يک فرايند الگودهي استفاده شده و سپس از نمونه تصويربرداري مي‌شود تا نتيجه کار مشخص شود. با انجام همزمان الگودهي و تصويربرداري، نقايص به سرعت شناسايي شده و در کل چرخه ساخت، صرفه‌جويي بسيار زيادي در زمان صورت مي‌گيرد. اين کار مستلزم توسعه فناوري جديدي است که مي‌تواند اين دو عملکرد را با يکديگر ترکيب نموده و موجب توسعه نسل بعدي ابزارهاي ساخت شود.

نانوساخت و تصويربرداري همزمان با استفاده از AFM

در 5 سال گذشته، محققان گروه نانوفيزيک و مواد نرم دانشگاه بريستول انگليس مشغول توسعه يک ميکروسکوپ نيروي اتمي (AFM) بسيار سريع بوده‌اند. AFM که شايد ساده‌ترين ابزار براي تعين مشخصات سطح باشد، قابليت تصويربرداري در مقياس نانو در سه بعد را داشته و مي‌تواند در هوا، خلأ، و زير مايعات کار کند. AFM بسيار سريع امکان تصويربرداري بسيار سريع (در حد فيلمبرداري) از سطوح را فراهم کرده و به دانشمندان امکان مي‌دهد تغييرات توپوگرافي سطحي را به صورت بلادرنگ مشاهده کنند. يکي از کاربردهاي اين ابزار استفاده از آن در نانوساخت است. دانشمندان مدت زميان زيادي است که مي‌دانند اعمال يک ميدان الکتريکي ميان نوک AFM و سطح يک فلز يا ماده نيمه‌رسانا موجب اکسيداسيون موضعي سطح نمونه مي‌شود. در اين کار دانشمندان تصميم گرفتند يک فرايند معمول ساخت نيمه‌رسانا يعني اکسيداسيون سيليکون را تکرار کنند. توليد الگوهاي اکسيد سيليکون از طريق انطباق اعمال ميدان الکتريکي با حرکت روبشي AFM کنترل شد. نتيجه اين کار که در مجله Nanotechnology منتشر شده است، امکان مشاهده بلادرنگ الگوهاي خطي اکسيد سيليکون با عرض 100 نانومتر و ارتفاع کمتر از 2 نانومتر، و همچنين مشاهده الگوهاي ايجاد شده در سطحي به مساحت چند ميکرومتر مربع را نشان مي‌دهد. اين کار اولين گام در مسير توسعه فناوري ساخت جديد است که در آن امکان الگودهي و بررسي الگوهاي ايجاد شده به صورت همزمان وجود دارد. هدف از توسعه بيشتر اين کار در آينده، بهبود مکانيسم روبشي AFM بسيار سريع و همچنين افزايش محدوده انجام فرايند الگودهي است.